电子工业用气体 四氟化硅 |
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| 标准编号：GB/T 31058-2014 |
标准状态：现行 |
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| 标准价格：28.0 元 |
客户评分：  |
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本标准规定了四氟化硅的技术要求、试验方法、标志、包装、运输和贮存等内容。
本标准适用于萤石硫酸法、六氟硅酸盐热分解法、单质硅直接氟化法制备的四氟化硅。它主要用作电子工业中等离子蚀刻、发光二极管 P形掺杂、离子注入工艺、外延沉积扩散的硅源和光导纤维用高纯石英玻璃的原料,也是生产多晶硅的重要原料。
分子式:SiF4。
相对分子质量:104.0786128(按2009年国际原子相对质量)。 |
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| 英文名称： |
Gases for electronic industry—Silicon tetrafluoride |
 替代情况： |
被GB/T 31058-2026代替 |
| 中标分类： |
化工>>其他化工产品>>G86工业气体与化学气体 |
| ICS分类： |
化工技术>>化工产品>>71.100.20工业气体 |
| 发布部门： |
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2014-12-22 |
| 实施日期： |
2015-07-01
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| 作废日期： |
2026-11-01
即将作废 距离作废日期还有165天
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| 提出单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203) |
| 归口单位： |
全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203) |
| 起草单位： |
核工业理化工程研究院华核新技术开发公司、佛山市华特气体有限公司、绿菱电子材料(天津)有限公司、上海华爱色谱分析技术有限公司、贵州大学、西南化工研究设计院有限公司 |
| 起草人： |
邓建平、李于教、傅铸红、汤有伦、崔学文、方华、唐安江、周鹏云 |
| 页数： |
8页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 出版日期： |
2015-07-01 |
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本标准按照 GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203)提出并归口。
本标准起草单位:核工业理化工程研究院华核新技术开发公司、佛山市华特气体有限公司、绿菱电子材料(天津)有限公司、上海华爱色谱分析技术有限公司、贵州大学、西南化工研究设计院有限公司。
本标准主要起草人:邓建平、李于教、傅铸红、汤有伦、崔学文、方华、唐安江、周鹏云。 |
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