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英文名称: |
Test methods for thin film thickness of magnetron sputtering equipment |
中标分类: |
机械>>通用机械与设备>>J78真空技术与设备 |
ICS分类: |
流体系统和通用件>>23.160真空技术 |
发布部门: |
中国电子学会 |
发布日期: |
2022-08-10 |
实施日期: |
2022-08-10
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提出单位: |
中国电子学会 |
归口单位: |
中国电子学会 |
起草单位: |
北京航空航天大学、合肥致真精密设备有限公司、合肥致真智能装备有限公司、北京维开科技有限公司、北京北方华创微电子装备有限公司、致真存储(北京)科技有限公司、深圳亘存科技有限责任公司 |
起草人: |
赵巍胜、张博宇、程厚义、SylvainEIMER、彭守仲、许涌、PierreVALLOBRA、王子路、姚宇暄、许人友、葛继尧、杜寅昌、杜鸿基、李殿浦、杨玉杰、王戈飞、刘宏喜、郭玮、何帆 |
页数: |
16页 |
出版社: |
中国标准出版社 |
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