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| 英文名称： |
Test method for sub-surface damege of gallium arsenide polished wafer by X-ray double crystal diffraction |
 中标分类： |
>>>>L5971 |
| 发布部门： |
中华人民共和国电子工业部 |
| 发布日期： |
1998-03-18 |
| 实施日期： |
1998-05-01
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| 归口单位： |
中国电子技术标准化研究所 |
| 起草单位： |
电子工业部第四十六研究所 |
| 起草人： |
张世敏、郝建民、段曙光 |
| 页数： |
4页 |
| 出版社： |
电子工业出版社 |
| 出版日期： |
1998-04-01 |
| 标准前页： |
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