工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 |
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| 标准编号：GB/T 14849.4-2014 |
标准状态：现行 |
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| 标准价格：31.0 元 |
客户评分：  |
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GB/T14849的本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、锰、钛、镍、铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼
含量的测定方法。
本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、锰、钛、镍、铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼量的测定。 |
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| 英文名称： |
Methods for chemical analysis of silicon metal—Part 4:Determination of impurity contents—Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method |
 替代情况： |
替代GB/T 14849.4-2008 |
| 中标分类： |
冶金>>金属化学分析方法>>H12轻金属及其合金分析方法 |
| ICS分类： |
冶金>>有色金属>>77.120.10铝和铝合金 |
| 发布部门： |
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会 |
| 发布日期： |
2014-12-05 |
| 实施日期： |
2015-08-01
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| 归口单位： |
全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243) |
| 起草单位： |
昆明冶金研究院、中国铝业股份有限公司郑州研究院、昆明冶研新材料股份有限公司 |
| 起草人： |
刘 维 理、王 劲 榕、李 跃 平、赵 德 平、杨 毅、赵 建 为、王 云 舟、王 宏 磊、聂 长 虹、刘英波、卢国洪、吴豫强、张云晖、谭少姬、程志武、周杰 |
| 页数： |
16页 |
| 出版社： |
中国标准出版社 |
| 出版日期： |
2015-08-01 |
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GB/T14849《工业硅化学分析方法》分为9个部分:
———第1部分:铁含量的测定 1,10-二氮杂菲分光光度法;
———第2部分:铝含量的测定 铬天青-S分光光度法;
———第3部分:钙含量的测定 火焰原子吸收光谱法、偶氮氯膦Ⅰ分光光度法;
———第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法;
———第5部分:杂质元素含量的测定 X射线荧光光谱法;
———第6部分:碳含量的测定 红外吸收法;
———第7部分:磷含量的测定 钼蓝分光光度法;
———第8部分:铜含量的测定 PADAP分光光度法;
———第9部分:钛含量的测定 二安替比林甲烷分光光度法。
本部分为 GB/T14849的第4部分。
本部分按照 GB/T1.1—2009给出的规则起草。
本部分代替 GB/T14849.4—2008《工业硅化学分析方法 第4部分:电感耦合等离子体发射光谱法测定元素含量》。与 GB/T14849.4—2008相比,主要技术变化如下:
———增加了铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼的检测;
———增加了两种溶样方式;
———补充了重复性限、再现性限实验数据。
本部分由全国有色金属标准化技术委员会(SAC/TC243)归口。
本部分负责起草单位:昆明冶金研究院、中国铝业股份有限公司郑州研究院、昆明冶研新材料股份有限公司。
本部分参加起草单位:云南出入境检验检疫局技术中心、通标标准技术服务有限公司、浙江合盛硅业有限公司、云南永昌硅业股份有限公司。
本部分主要起 草 人:刘 维 理、王 劲 榕、李 跃 平、赵 德 平、杨 毅、赵 建 为、王 云 舟、王 宏 磊、聂 长 虹、刘英波、卢国洪、吴豫强、张云晖、谭少姬、程志武、周杰。
本部分所代替标准的历次版本发布情况为:
———GB/T14849.4—2008。 |
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